德国耶拿
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半导体工艺良率提升关键:TOC污染监控解决方案
随着半导体技术迈向7nm、5nm及更先进制程,制造环境的洁净度要求变得愈发严苛。其中,总有机碳(TOC)污染已成为影响晶圆表面质量和产品良率的关键因素。高效精准的TOC监控,成为半导体制造过程中不可或缺的一环。

半导体制造中的TOC控制要求
在半导体工艺流程中,超过80%的工序需要经过化学处理,而每一道化学处理都离不开超纯水。根据国际标准,一级电子级别超纯水的TOC需低于5ppb(ASTM D5127标准),国内标准要求低于20ppb(GB/T 11446.1-2013)。同时,电镀液中的有机污染物也必须控制在3000-5000ppm以内,以确保PCB印制电路板的品质稳定。
行业面临的TOC检测挑战
1.超低浓度检测难:超纯水中ppb级别的TOC准确测定
2.高浓度高盐样品:电镀液中高TOC浓度与高盐含量的干扰
3.浓度跨度大:不同数量级浓度样品无法一次性测定
4.运营成本高:维护频繁、耗材昂贵
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|精准突破一:
VITA流量管理系统
针对氧化过程中气体流速波动问题,德国耶拿创新的VITA流量控制系统,通过集成式高性能气体控制盒确保气体流速稳定,电子控制实时调整补偿流速波动。支持高达20ml大体积进样,显著提升痕量分析的精密度和灵敏度,检出限达ppb级别。

【应用实例:超纯水TOC测定】
直接测定超纯水样品,标准偏差仅0.272μg/L,检出限达0.816μg/L,远优于国家一级电子水标准要求。
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|精准突破二:
高效消解系统+高聚焦NDIR检测器
采用高能双波长紫外氧化技术(254+185nm),确保样品完全消解为CO2。创新高聚焦NDIR检测器采用平行光源设计,无能量损失、量程宽广(0-30000mg/L),完美应对高TOC浓度、高盐样品等复杂检测需求。


【应用实例:电镀液TOC测定】
直接测定电镀液样品,加标回收率达101%-103%,重复性优异,耐盐性能卓越。
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|精准突破三:
智能多曲线匹配技术
独创单测试方法同时连接低、中、高浓度三条标准曲线功能,仪器自动智能匹配最佳曲线,确保测试结果准确可靠。支持同样品盘多方法选择,大幅减少前处理时间。

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|精准突破四:
经济实用设计
1.高能长效紫外灯与高聚焦NDIR检测器,寿命长、故障率低
2.半导体物理制冷除水,无耗材
3.模块化设计,客户可自行更换耗材
4.开放试剂,采购便捷,成本经济
结语
德国耶拿multi N/C总有机碳分析仪凭借其卓越的技术优势,为半导体行业提供了全面的TOC监控解决方案,有效控制生产过程中的TOC水平,维持化学工艺稳定性,降低因缺陷造成的返工和材料浪费,助力企业提升产品性能和良品率,是半导体品质控制的理想伙伴。
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上海恒奇仪器仪表有限公司,作为耶拿分析仪器的授权代理商,全心全意为您提供更多专业的定制化的服务。
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